Tianxiang GAO, Zhenbing LUO(), Yan ZHOU, Wenqiang PENG, Pan CHENG
摘要:
为进一步发展合成双射流防除冰技术,搭建了合成双射流控制水滴轨迹特性实验台,通过高速摄影研究了合成双射流激励器相对水滴静止以及存在相对运动时激励器驱动电压、驱动信号相位对水滴轨迹的影响。以水滴受到射流影响375 μs后的水平速度作指标,评估射流对水滴轨迹特性的影响。激励器与水滴不存在相对运动(转盘静止)时,速度从驱动信号幅值为60 V时的0.65 m/s增大至165 V时的2.29 m/s,增长趋势呈线性。水滴产生时射流所处相位对水滴的轨迹影响较大。保持165 V的驱动信号幅值,不同射流初始相位下的速度可从1.11 m/s变化至4.98 m/s。当合成双射流激励器以4.4 m/s的线速度接近水滴时(通过转盘转动实现),速度从驱动信号幅值为60 V时的1.57 m/s增大至驱动幅值为165 V时的3.25 m/s;并且圆盘本身的转动对速度的影响很小。此外,圆盘转动时速度随射流初始相位的变化相比转盘静止时有一个时间差,但总体变化趋势相近,并且转盘转动时对应的速度更大。实验中射流均能够使得水滴的速度在极短时间内提升至与水滴产生区域射流速度相近的量级。转盘以更高速度转动时(实验中激励器与水滴最大相对线速度可达22.0 m/s),合成双射流仍对水滴轨迹有明显影响。
中图分类号: